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晶圓代工大廠包括臺積電、英特爾、三星等公司在 2017 年陸續將工藝進入 10 納米階段，而且準備在 2018 年進入 7 納米工藝的試產，甚至 2020 年還將要推出 5 納米工藝技術。因此，隨著工藝技術的提升，半導體工藝也越來越逼近極限，制造難度也越來越大。就以 5 納米之后的工藝來說，到目前為止都沒有明確的結論。對此，美國布魯克海文國家實驗室 （Brookhaven National Laboratory，簡稱BNL） 的研究人員日前宣布，開發出可以達成 1 納米工藝的相關技術與設備。

根據EETimes報導，美國能源部（DOE）旗下的布魯克海文國家實驗室的研究人員，日前宣布成功的采用電子束印刷技術，成功的制造了尺寸只有 1 納米的印刷設備。據了解，這個實驗室的研究人員采用了電子顯微鏡，制造出了比普通電子束印刷（EBL）技術所能做出的更小的尺寸。這使得電子敏感性材料在聚焦電子束的作用下，尺寸得以大大縮小，達到了可以操縱單個原子的程度。而這項技術與設備的誕生，則可極大的改變材料特性，從導電變成光傳輸，或者在這兩種狀態下交互執行。